產(chǎn)品中心
服務領域

設備采用PLC+觸摸屏控制,操作簡單易維護,產(chǎn)品主要適用于小規(guī)模生產(chǎn)、科學實驗;腔體材質采用316不銹鋼、進口鋁合金材質,耐腐蝕,腔體可以根據(jù)客戶產(chǎn)品需求定制;進口針閥精密流量控制計,兩路工藝反應氣體通道;獨特的電極結構,確保等離子體的均勻性; GD-10 40KHz/13.56MHz AC220V(±10V)查看所有產(chǎn)品

PECVD是半導體行業(yè)中常用的一種薄膜沉積技術,用于生產(chǎn)高質量的薄膜層,如介電層、低k介質材料等,這些薄膜對于提高半導體器件的性能和可靠性至關重要。在光電子器件的生產(chǎn)中,PECVD技術被用于沉積高質量的介電薄膜和光學薄膜,以制造激光器、光學調(diào)制器、光纖傳感器等器件。PECVD也被用于硅基光電子器件的生產(chǎn),這些器件在光通信和集...查看所有產(chǎn)品

1、非接觸式結構避免材料損傷。超聲波可打破空氣粘滯層,徹底清除極小顆粒(1.6um以上)的灰塵。2、從除塵單元吹出的氣流得到充分的應用,控制了整個氣流和真空,從而保證了持續(xù)的清除性能不受材料厚度的影響。3、高效的氣流控制,一些低壓氣流也能得到應用,減小了損耗。4、閉環(huán)系統(tǒng)不會破壞生產(chǎn)車間(潔凈室)的氣流平衡。5、不需要高額的消...查看所有產(chǎn)品

可與客戶生產(chǎn)線聯(lián)機實現(xiàn)自動化生產(chǎn);可選配多重類型噴嘴,使用范圍廣泛;使用壓縮空氣或氮氣;噴嘴采用無皮帶式靜音結構;采用低溫等離子冷弧放電技術;安全環(huán)保不產(chǎn)生任何污染物; PM-V84 18-25KHz AC220V(±10V)查看所有產(chǎn)品

小型等離子模組,可根據(jù)產(chǎn)品的規(guī)格定做,應用于各種材料表面清潔、活化等;不分處理對象的基材類型,如金屬、塑料、玻璃、高分子材料等均可進行處理;可與生產(chǎn)線結合連續(xù)操作;成本低效率高,全程干燥處理不產(chǎn)生任何污染物; FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V)查看所有產(chǎn)品

可應用于液晶面板行業(yè) STN/TFT/OLED/LTPS、觸控面板、光電元件、PCB/FPC行業(yè)、太陽能行業(yè)、觸控面板行業(yè),以及電子元件封裝貼合前清潔、 LED封裝等等 DL-600 最大寬度560mm 氮化硅刻蝕AC220V(±10V)查看所有產(chǎn)品

可應用于粘接、底部填充、定點灌封、表面貼裝、檢測試紙的噴涂、邦定、芯片固晶、封裝倒扣、精密涂覆、定堆棧封裝POP、密封等工藝點膠平臺自主控制系統(tǒng)AC220V(±10V)查看所有產(chǎn)品